【手機中國新聞】芯片越來越精微，很多人認為摩爾定律未來不久就會時效。不過，芯片廠商仍然在不斷探索物理世界的極限，從3nm工藝到2nm工藝，從2nm工藝到1.4nm工藝，再從1.4nm工藝到1nm工藝，后者被視為摩爾定律的物理極限。

臺積電（圖源網）

　　10月31日消息，據臺灣《工商時報》報道，繼竹科2nm廠之后，臺積電將啟動先導計劃，預計最新2nm以下（1nm）制程擬落腳新竹科學園區轄下的桃園龍潭園區。

　　對此，竹科管理局長王永壯回應稱，關于個別廠商布局情況，在廠商宣布之前不便透露，但單純以龍潭園區來說，第一期事業專用區用地已差不多滿了，第二期主要規劃為公園、綠地開放空間，未來若有新廠想要進駐、設廠，確實要展開第三期基地評估規劃工作。按照這個情況，臺積電已經為1nm做規劃了，正式量產1nm工藝可能要到2027年去了。

　　而要量產1nm工藝，更先進的下一代EUV光刻機就成為了重中之重。據悉，ASML的下一代EUV光刻機試驗型號最快明年出貨，2025年后正式量產，這基本在臺積電的節奏之中。不過，這種EUV光刻機的售價將達到4億美元以上。

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